Please use this identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/20.500.14365/4069
Title: DALDIRMALI KAPLAMA SİSTEMİ İLE 2B MALZEMELERİN KAPLANMASI
Authors: Sağlam, Özge
Abstract: İki boyutlu (2B) malzeme ailesinin bir üyesi olan inorganik nanolevhalar bir ya dabirkaç atom kalınlığına sahip olup yığın katmanlı oksit malzemelerin kimyasalolarak pullandırılması ile elde edilmektedir. Bu çalışmada, nanolevhalardanmeydana gelen nanofilmlerin tabaka-tabaka yöntemi ile üretilmesi için birdaldırmalı kaplama sistemi tasarlanarak üretilmiştir. Sistemin nanofilmüretimindeki performansını test etmek amacıyla Nb6O17 nanolevhalarkullanılmıştır. Bunun için katmanlı K4Nb6O17·3H2O malzemesi pullandırılarakkalınlıkları yaklaşık 2 nm nanolevhalar elde edilmiştir. Daha sonra, negatif yüklüNb6O17 nanolevhalar ve pozitif yüklü polidiallildimetilamonyum klorür (PDDA),otomatik daldırma sistemi kullanılarak kuartz alttaşlar üzerine dönüşümlü olarakyerleştirilmiştir. Nb6O17/PDDA’ in 5 kaplama döngüsüne sahip yüzey, atomik kuvvetmikroskobu ile taranarak alttaşın etkili şekilde kaplandığı görüntülenmiştir. Ayrıca,absorbans spektrası, Nb6O17/PDDA’ in çeşitli kaplama döngüleri için kaydedilmiştir.Daldırmalı kaplama sistemi ile elde edilen absorbans değerindeki artış literatürderaporlanmış manuel kaplama sonucunda elde edilen absorbans oranındaki artış ilekalitatif olarak benzer özellikler göstermiştir. Bu çalışmada önerilen düşük maliyetlive laboratuvar ortamında geliştirilen sistemin de nanofilm kaplamaaraştırmalarında kullanılabileceği ortaya konmuştur.
URI: https://doi.org/10.21923/jesd.458858
https://search.trdizin.gov.tr/yayin/detay/398688
https://hdl.handle.net/20.500.14365/4069
ISSN: 1308-6693
Appears in Collections:TR Dizin İndeksli Yayınlar Koleksiyonu / TR Dizin Indexed Publications Collection

Files in This Item:
File SizeFormat 
3095.pdf1.38 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record



CORE Recommender

Page view(s)

190
checked on Nov 18, 2024

Download(s)

28
checked on Nov 18, 2024

Google ScholarTM

Check




Altmetric


Items in GCRIS Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.